二氧化矽粒徑標準品，藥物輸送
二氧化矽微球 納米顆粒 粒徑標準品和微珠
用於污染晶片標準和藥物輸送的二氧化矽納米顆粒尺寸標準。
MSDS：二氧化矽微球、納米顆粒
二氧化矽納米粒子是粒度標準，呈球形。 矽微珠是高度精確的，單分散的，可溯源到NIST的尺寸標準，並且尺寸範圍從40納米到2微米（2000 nm）。 將40 nm至102 nm的二氧化矽顆粒懸浮在乙醇中以保持單分散性，而105 nm至2000 nm的二氧化矽顆粒則懸浮在15ml DI水溶液中。 二氧化矽顆粒的折射率非常接近聚苯乙烯乳膠球，這使得二氧化矽顆粒可用於使用大功率激光的晶圓檢查系統，TEM和SEM進行尺寸校準。 二氧化矽顆粒尺寸標準品，用於藥物輸送以及生產晶圓校準標準品和二氧化矽污染晶圓標準品。 二氧化矽微珠也可以5克和10克的增量提供，或以工業需求所需的任何體積提供。 晶圓檢查系統SSIS（例如KLA-Tencor SP1，KLA-Tencor SP2，TopCon，ADE和Hitachi晶圓檢查系統）可以使用SiO2顆粒進行尺寸校準。 二氧化矽納米球的粒徑從40nm到2微米不等，以校準各個晶圓檢查系統和激光粒子計數器的尺寸響應曲線。 提供波特蘭水泥，CMP漿料，藥物輸送的行業使用30nm至2微米的二氧化矽顆粒。 二氧化矽微珠生長到準確且可重複的尺寸峰。 二氧化矽納米顆粒是球形的，並且具有特定直徑的人造顆粒，而大多數其他工藝顆粒都是非球形的，尺寸也不均勻。
| 產品標題（*大小類似於NIST SRM大小） | 液體體積（15毫升，100毫升） | 平均峰 | 尺寸均勻度（CV） | 二氧化矽顆粒濃度（體積） | 15 ml容量瓶 | 100 ml容量瓶 |
| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的40 nm | 15ml或100 ml | 40nm | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的45 nm | 15ml或100 ml | 45nm | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的50 nm | 15ml或100 ml | 50nm | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 乙醇中的二氧化矽納米粒子，60 nm * | 15ml或100 ml | 60nm * | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的70 nm | 15ml或100 ml | 70nm | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的80 nm | 15ml或100 ml | 80nm | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的90 nm | 15ml或100 ml | 90nm | ≤5％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 二氧化矽納米顆粒，在乙醇中的100 nm | 15ml或100 ml | 100nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 乙醇中的二氧化矽納米粒子，102 nm * | 15ml或100 ml | 102nm * | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，125 nm | 15ml或100 ml | 125nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，130 nm | 15ml或100 ml | 130nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，140 nm | 15ml或100 ml | 140nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，150 nm | 15ml或100 ml | 150nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，155 nm | 15ml或100 ml | 155nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，160 nm | 15ml或100 ml | 160nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，170 nm | 15ml或100 ml | 170nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，180 nm | 15ml或100 ml | 180nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，190 nm | 15ml或100 ml | 190nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，200 nm | 15ml或100 ml | 200nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，225 nm | 15ml或100 ml | 225nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，250 nm | 15ml或100 ml | 250nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，269 nm * | 15ml或100 ml | 269nm * | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，270 nm | 15ml或100 ml | 270nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，300 nm | 15ml或100 ml | 300nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，325 nm | 15ml或100 ml | 325nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，350 nm | 15ml或100 ml | 350nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，400 nm | 15ml或100 ml | 400nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，450 nm | 15ml或100 ml | 450nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，500 nm | 15ml或100 ml | 500nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，600 nm | 15ml或100 ml | 600nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，700 nm | 15ml或100 ml | 700nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，800 nm | 15ml或100 ml | 800nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，895 nm * | 15ml或100 ml | 895nm * | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，1000 nm | 15ml或100 ml | 1000nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，1019 nm | 15ml或100 ml | 1019nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，1500 nm | 15ml或100 ml | 1500nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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| 去離子水中的二氧化矽納米粒子，2000 nm | 15ml或100 ml | 2000nm | ≤3％ | 企業排放佔全球 10% |
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二氧化矽納米粒子作為粒度標準品和微珠：
- 可重複，批次間，二氧化矽粒徑大小
- 微珠用於藥物輸送
- 二氧化矽納米顆粒設計為球形，尺寸均勻
- 典型的<3％峰尺寸分佈寬度大於100nm
- 40nm至2um尺寸，15ml的去離子水和10％的SiO2濃度
- 40nm至30um大小的干二氧化矽納米顆粒，以1Kg增量遞增
- 99.997％的超高尺寸純度
- SiO2（n = 1.46）的折射率，非常接近聚苯乙烯乳膠（n = 1.585）@ 633nm激光波長
- SiO2和PSL Spheres之間的校準曲線很簡潔，可以進行高度精確的SiO2尺寸校準
二氧化矽微珠是以 10% 濃度、15 毫升或 100 毫升瓶裝訂購的粒徑標準品。 稱呼 Applied Physics 在720-635-3931。
色譜用二氧化矽是通過在高效液相色譜（HPLC），超高效液相色譜（UHPLC）和親水作用色譜（HILIC）工業應用中將二氧化矽用作固定相來實現的。 已知二氧化矽核型顆粒由於其窄的粒徑分佈（PSD）而比多孔顆粒具有更高的分離效率。 我們的高純度單分散二氧化矽具有窄的粒徑分佈峰，由於粒徑分佈窄，因此可增強色譜性能。 由於床層和流動的均勻性，二氧化矽的窄粒度分佈導致更高的效率和一致性。 床的均勻性導致減少的空隙和減少的二氧化矽床中的通道，從而獲得更長的壽命和更小的板高。 二氧化矽納米顆粒的表面有在正相和HPLC固定相中支持HILIC的矽烷醇基團。 我們提供的二氧化矽是用於為反相HPLC創建非極性，功能化表面C18，C8等的原料。 要求從高納米尺寸到較低微米尺寸的尺寸。
工業應用包括：
- 二氧化矽納米球和微珠
- 藥物輸送
- 二氧化矽污染晶圓標準
- 疏水性二氧化矽和功能化二氧化矽
- 聚合物填料
- 高壓液相色譜
- CMP漿料，矽晶片拋光
- 藥物輸送和介孔二氧化矽納米顆粒（MSN）
- 薄膜，太陽能電池製造
- 納米複合材料
- SSIS（掃描表面檢查系統）和氣溶膠顆粒計數器尺寸校準
- 高壓液相色譜
- 波特蘭水泥和水泥製造
晶圓檢測系統是掃描表面檢測系統。 SSIS 工具，例如 KLA、Hitachi 和 Topcon 的 Surfscan，可以使用二氧化矽顆粒進行校準，因為二氧化矽的折射率接近聚苯乙烯乳膠的折射率。 因此 PSL Spheres 和二氧化矽納米顆粒之間的校準是相似的。 對於使用 KLA-Tencor SP3、SP5 和 SP5xp 晶圓檢測系統等高功率激光器的應用，二氧化矽納米粒子更加穩健。 可致電訂購二氧化矽納米顆粒 Applied Physics 在 720-635-3931。 二氧化矽納米粒子的折射率接近聚苯乙烯乳膠球的折射率。 二氧化矽顆粒可承受高功率激光的高功率激光強度，使用二氧化矽納米顆粒生產的顆粒晶片標準甚至比 PSL Spheres 更持久。 二氧化矽粒徑標準品以散裝粉末形式提供，如功能化二氧化矽或疏水二氧化矽，體積為 1 千克至 1000 千克，尺寸範圍為 40 納米至 2 微米，用於聚合物填料。 用作尺寸標準的二氧化矽納米粒子也以 15ml 體積和 10% 的濃度置於 DI 水溶液中，尺寸範圍從 40nm 到 2 微米。 使用二氧化矽納米粒子進行 SSIS 尺寸校準和激光粒子計數器 (LPC) 尺寸校準非常出色，因為在當今 SSIS 和 LPC 儀器中使用的高功率激光進行尺寸校準掃描時，二氧化矽粒子的尺寸不會縮小。 通常要求進行SSIS和LPC校準的SIO2粒徑為32nm，40nm，50nm，60nm，70nm，80nm，100nm，125nm，150nm，200nm 250nm，300nm，400nm，500nm，600nm，750nm，800nm，1000nm，2000nm，3000nm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMXm，XNUMXm，XNUMXm，XNUMXnm，XNUMXm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMX nm，XNUMX nm，XNUMXm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMXnm，XNUMX米，XNUMX年。 二氧化矽顆粒也用於藥物輸送。
二氧化矽粒徑標準和藥物輸送來自 Applied Physics Inc. 二氧化矽粒徑標準和藥物輸送來自 Applied Physics 公司
