PSL球，聚苯乙烯乳膠，Sur-Cal粒度標準

SURF-CAL PSL球體通過在50ml瓶中提供預混合的PSL球體，簡化了在工廠中準備校準晶片的工作。 顆粒尺寸對應於儀器製造商要求的校準點尺寸。 顆粒濃度為每毫升1 x 10 e10個顆粒。 SEMI製造商要求在校準掃描表面檢查系統（也稱為晶圓檢查工具）時使用特定的顆粒尺寸。 SURF-CAL PSL球與儀器製造商合作，符合SEMI標準M52（3）和M53準則。 可用大小是國際半導體技術路線圖ITRS（1）定義的關鍵尺寸節點。

通過在裸露的矽和圖案晶片上沉積SURF-CAL，NIST可追踪的PSL（聚苯乙烯乳膠）球，您可以對KLA-Tencor，Hitachi，ADE，Topcon SSIS工具執行定期的尺寸校準檢查，並將晶片檢查掃描儀與掃描儀進行比較其他位置。 您還可以在製造過程的關鍵階段評估SSIS的性能。

將所有產品以每毫升50 x3顆粒的濃度懸浮在1010 mL瓶中的去離子過濾水（去離子水）中。 這些PSL球已通過差分遷移率分析器（DMA）或其他尺寸排除技術確定了尺寸。

測量方法：

為確保NIST的可追溯性，通過透射電子或光學顯微鏡從NIST標準參考材料（2）轉移了這些產品的認證直徑。 使用NIST技術說明1297，1994年版“評估和表示NIST測量結果的不確定性指南”（4）計算不確定度。 列出的不確定度是擴展不確定度，覆蓋因子為2（K = 2）。 使用粒徑分佈的大約±XNUMXs範圍計算峰直徑。 大小分佈計算為整個峰的標準偏差（SDS）。 變異係數（CV）是一種標準偏差，表示為峰直徑的百分比。 FWHM（半峰全寬）分佈計算為峰高一半處的分佈，以峰直徑的百分比表示。

1.“國家半導體技術路線圖”，半導體工業協會（1999年）

2. SD Duke和EB Layendecker，“通過電子顯微鏡對亞微米球形顆粒尺寸進行校準的內標方法”，精細顆粒學會（1988）

3。 SEMI M52 —用於指定X晶片130 nm技術的矽晶片表面檢查系統的指南。

4. Barry N. Taylor和Chris E. Kuyatt，“評估和表達NIST測量結果不確定性的準則”。 NIST技術說明1297，1994年版，1994年XNUMX月。

 

顆粒成分	聚苯乙烯乳膠，PSL球
濃度	3 10點¯x10 每毫升顆粒
粒子密度	1.05 g /cm³
折射率	1.59 @ 589nm（25°C）
填充量	50 mL
內容	去離子過濾水中的聚苯乙烯微球
截止日期	≤12個月

要求
報價

 

PSL球，SURF-CAL粒度標準
產品零件號	認證峰值直徑	標準偏差	CV和FWHM	每毫升顆粒
AP PD-047B	47納米	4納米	7.5％，17.4％	1 x 10 e10
AP PD-064B	64納米	3納米	5.4％，10.9％	1 x 10 e10
AP PD-070B	72納米	5納米	7.2％，16.2％	1 x 10 e10
AP PD-080B	80納米	6納米	7.0％，12.8％	1 x 10 e10
AP PD-083B	83納米	4納米	4.2％。 9.6％	1 x 10 e10
AP PD-090B	89納米	5納米	5.7％，9.6％	1 x 10 e10
AP PD-092B	92納米	4納米	4.6％，9.1％	1 x 10 e10
AP PD-100B	100納米	3納米	2.6％，5.2％	1 x 10 e10
AP PD-110B	114納米	4納米	3.3％，6.3％	1 x 10 e10
AP PD-125B	126納米	3納米	2.4％，4.8％	1 x 10 e10
AP PD-155B	155納米	3納米	1.6％，3.7％	1 x 10 e10
AP PD-180B	184納米	4納米	2.2％，3.9％	1 x 10 e10
AP PD-200B	202納米	4納米	1.8％，4.0％	1 x 10 e10
AP PD-204B	204納米	4納米	1.8％，3.7％	1 x 10 e10
AP PD-215B	220納米	3納米	1.6％，3.3％	1 x 10 e10
AP PD-305B	304納米	4納米	1.4％，3.4％	1 x 10 e10
AP PD-365B	360納米	5納米	1.3％，2.8％	1 x 10 e10
AP PD-500B	498納米	10納米	2.0％，5.0％	1 x 10 e10
AP PD-800B	809納米	6納米	0.8％，1.8％	1 x 10 e10
AP PD-802B	802納米	9納米	1.1％，2.4％	1 x 10 e10
AP PD-1100B	1.112μm	11納米	1.0％，2.5％	1 x 10 e10